[发明专利]热处理装置有效
| 申请号： | 201680051793.7 | 申请日： | 2016-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN108027208B | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | 山本亮介;佐藤学;中田绫香 | 申请（专利权）人： | 光洋热系统股份有限公司 |
| 主分类号： | F27B9/12 | 分类号： | F27B9/12;C21D1/00;F27B9/02;F27B9/26;F27D3/12 |
| 代理公司： | 11127 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 庞东成;王博 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种热处理装置，其能够实现更小型的结构。热处理装置(1)具有制冷剂通道形成体(42)，其用于形成向被处理物(100)供给制冷剂的制冷剂通道(48)。制冷剂通道形成体(42)包含两个以上的作为制冷剂通道形成构件的上侧构件(50)和下侧构件(49)，这些构件(49)、(50)构成为，沿着与输送方向交叉的上下方向(Z1)相互接近地进行位移，由此以收纳被处理物(100)的状态形成制冷剂通道(48)。另外，上述构件(49)、(50)构成为，沿着上下方向(Z1)相互隔离地进行位移，由此允许沿着输送方向(A1)的被处理物(100)相对于制冷剂通道(48)进出。 | ||
| 搜索关键词： | 热处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种热处理装置，其特征在于，具备制冷剂通道形成体，该制冷剂通道形成体用于形成向通过沿特定输送方向的输送路径的被处理物供给特定制冷剂的制冷剂通道，/n所述制冷剂通道形成体包含两个以上的制冷剂通道形成构件，/n两个以上的所述制冷剂通道形成构件构成为，沿着与所述输送方向交叉的特定的交叉方向相互接近地进行位移，由此以收纳所述被处理物的状态形成所述制冷剂通道，并且构成为，沿着所述交叉方向相互隔离地进行位移，由此允许沿着所述输送方向的所述被处理物相对于所述制冷剂通道进出，/n所述制冷剂通道形成体包含：作为所述制冷剂通道形成构件的上侧构件、配置于该上侧构件的下方的下侧构件、和载置有所述被处理物的输送托盘，/n构成为：所述下侧构件、所述输送托盘和所述上侧构件在作为所述交叉方向的上下方向重叠，所述上侧构件和所述下侧构件上下夹持所述输送托盘，从而通过所述下侧构件、所述输送托盘和所述上侧构件形成所述制冷剂通道。/n
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