[发明专利]用于光刻法中的光刻胶清洁组合物及其用于处理衬底的方法有效
| 申请号： | 201680052243.7 | 申请日： | 2016-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN108026492B | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | R·L-K·常;G·E·帕里斯;陈秀美;李翊嘉;刘文达;陈天牛;L·M·马兹;R·L·C·洛;孟令人 | 申请（专利权）人： | 弗萨姆材料美国有限责任公司 |
| 主分类号： | C11D11/00 | 分类号： | C11D11/00;C11D3/39;C11D3/34;C11D3/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 吴亦华;徐志明 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文公开了用于剥离膜厚度为3‑150μm的光刻胶图案的光刻胶清洁组合物，其包含(a)季铵氢氧化物、(b)水溶性有机溶剂的混合物、(c)至少一种腐蚀抑制剂和(d)水，及用该光刻胶清洁组合物处理衬底的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 中的 清洁 组合 及其 处理 衬底 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于剥离膜厚度为3-150μm的光刻胶图案的光刻胶清洁组合物，所述组合物包含(a)0.5-5质量％的至少一种季铵氢氧化物或者两种或更多种季铵氢氧化物的混合物；(b)60-97.5质量％的水溶性有机溶剂与至少一种另外的有机溶剂或者两种或更多种另外的有机溶剂的混合物，所述水溶性有机溶剂包含二甲亚砜(DMSO)、环丁砜或二甲基砜或者其混合物；(c)0.5-15质量％的至少一种腐蚀抑制剂或者两种或更多种腐蚀抑制剂的混合物；和(d)0.5-25质量％的水。
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