[发明专利]接触电阻减小有效
| 申请号： | 201680052244.1 | 申请日： | 2016-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN108027844B | 公开（公告）日： | 2019-01-15 |
| 发明（设计）人： | G·M·耶里克 | 申请（专利权）人： | 阿姆有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 周博俊 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 本文描述的各种实现方式针对用于减小接触电阻的系统和方法。在一种实现方式中，一种方法可以包括分析集成电路的单元的操作条件。所述方法可以包括选择性地标记沿着集成电路的关键路径具有时序退化的单元的实例。所述方法可以包括降低用于选择性标记的具有时序退化的单元的实例的接触电阻。 | ||
| 搜索关键词： | 接触 电阻 减小 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：分析用于集成电路的单元的操作条件；选择性地标记单元的沿着集成电路的关键路径具有时序退化的实例；降低单元的选择性标记的具有时序退化的实例的接触电阻，其中，单元的选择性标记的实例包括选择性标记的晶体管，并且，降低接触电阻包括通过增大用于选择性标记的晶体管的接触的面积来修改选择性标记的晶体管的接触，增大用于选择性标记的晶体管的接触的面积包括增大选择性标记的晶体管的接触的面积以与接近选择性标记的晶体管的栅极重叠；以及基于集成电路的单元的实例来制造掩模。
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