[发明专利]具有正面涂层的光敏像素结构有效
| 申请号： | 201680052925.8 | 申请日： | 2016-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN108025171B | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 马丁·德特尔 | 申请（专利权）人： | PIXIUM视野股份公司 |
| 主分类号： | A61N1/05 | 分类号： | A61N1/05;H01L27/146 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 谢攀;刘继富 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种包括衬底层(15)和界面层(50)的光敏像素结构(10)，其中，界面层(50)至少部分地被设置在衬底层(15)的第一表面上，并且其中，界面层(50)至少部分地包括第一材料层(51)，并且界面层(50)至少部分地包括覆盖第一材料层(51)的第二材料层(52)，使得第一材料层(51)至少部分地被夹在第二材料层(52)和衬底(15)之间。本发明还涉及包括这种像素结构的阵列和植入物以及提供像素结构的方法，其中，第二材料层还具有从200nm‑600nm，优选从300nm‑500nm，最优选从320nm‑450nm选择的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 正面 涂层 光敏 像素 结构 | ||
【主权项】：
1.一种包括衬底层(15)和界面层(50)的光敏像素结构(10)，其中，所述界面层(50)至少设置在所述衬底层(15)的前表面的一部分上，并且其中，所述界面层(50)至少部分地包括第一材料层(51)，并且所述界面层(50)至少部分地包括覆盖所述第一材料层(51)的第二材料层(52)，使得所述第一材料层(51)至少部分地被夹在所述第二材料层(52)和所述衬底(15)之间，其中，所述第二材料层(52)的厚度为200nm-600nm，优选为300nm-500nm，最优选为320nm-450nm。
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