[发明专利]参考方案中的测量时间分布有效
申请号: | 201680053017.0 | 申请日: | 2016-08-29 |
公开(公告)号: | CN108027317B | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | R·陈;T·D·里德尔;M·M·坎加斯;D·I·西蒙;M·A·泰雷尔 | 申请(专利权)人: | 苹果公司 |
主分类号: | G01N21/27 | 分类号: | G01N21/27 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 邹丹 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开了用于参考方案的测量时间分布(1276,1277,1278)的方法和系统。本公开的方法和系统能够基于样本信号、参考对象信号、噪声水平和SNR动态地改变测量时间分布。该方法和系统被配置有多个测量状态,包括样本测量状态(1282)、参考对象测量状态(1284)和暗场测量状态(1286)。在一些示例中,测量时间分布方案可基于工作波长、采样界面处的测量位置和/或目标SNR。本发明的示例还包括用于同时测量不同测量状态的系统和方法。然而,系统和方法可包括高频检测器以消除或减小会降低SNR的去相关噪声波动。 | ||
搜索关键词: | 参考 方案 中的 测量 时间 分布 | ||
【主权项】:
1.一种用于在采样界面处确定样本中的物质的浓度和类型的系统,所述系统包括:一个或多个检测器像素,所述一个或多个检测器像素包括第一检测器像素,其中所述一个或多个检测器像素被配置为在多个周期中工作,每个周期包括多个测量状态,所述多个测量状态包括:第一测量状态,所述第一测量状态被配置为在第一时间段期间测量所述样本中的所述物质的一个或多个光学属性,第二测量状态,所述第二测量状态被配置为在第二时间段期间测量参考对象的一个或多个光学属性,和第三测量状态,所述第三测量状态被配置为在第三时间段期间测量噪声;和逻辑部件,所述逻辑部件能够动态地改变所述多个周期的一个或多个方面,其中所述一个或多个方面包括相应时间段的持续时间。
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