[发明专利]一种用于校准磁共振成像(MRI)体模的方法有效

专利信息
申请号: 201680053498.5 申请日: 2016-09-06
公开(公告)号: CN108027413B 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: P·T·韦萨宁;J·I·坦图 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: G01R33/58 分类号: G01R33/58
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 孟杰雄;王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的目的是改善基于MRI的处置,特别是基于MRI的放射治疗。该目的通过一种用于校准磁共振成像(MRI)体模的方法来实现,所述磁共振成像(MRI)体模具有预期的几何结构并且在所述几何结构内包括具有已知具有几何不准确性的位置的至少一个MRI可检测部分。所述方法包括以下步骤:步骤1:将所述体模放置在磁共振系统中的预定位置处,使得所述MRI可检测部分在所述磁共振成像系统的梯度系统的对称平面内,以及;步骤2:借助于第一序列来采集所述体模的所述MRI可检测部分的MRI图像,其中,所述MRI图像包括多个切片;步骤3:基于所述部分在所述MRI图像中的所述位置和表示来确定所述MRI体模的所述MRI可检测部分的所述几何不准确性。
搜索关键词: 一种 用于 校准 磁共振 成像 mri 方法
【主权项】:
1.一种用于校准磁共振成像(MRI)体模的方法,所述磁共振成像(MRI)体模具有预期的几何结构并且在所述几何结构内包括具有已知具有几何不准确性的位置的至少一个MRI可检测部分,其中,所述方法包括以下步骤:-步骤1:将所述体模放置在磁共振系统中的预定位置处,使得所述MRI可检测部分在所述磁共振成像系统的梯度系统的对称平面内,以及;-步骤2:借助于第一序列来采集所述体模的所述MRI可检测部分的MRI图像,其中,所述MRI图像包括多个切片;-步骤3:基于所述部分在所述MRI图像中的所述位置和表示来确定所述MRI体模的所述MRI可检测部分的所述几何不准确性。
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