[发明专利]酰基锗光引发剂及其制备方法有效
申请号: | 201680054564.0 | 申请日: | 2016-09-26 |
公开(公告)号: | CN108137727B | 公开(公告)日: | 2020-07-24 |
发明(设计)人: | N·莫什内尔;I·拉姆帕斯;U·K·费希尔;H·施蒂格;M·哈斯;G·格沙特-蒂穆纳 | 申请(专利权)人: | 义获嘉伟瓦登特公司 |
主分类号: | C08F2/50 | 分类号: | C08F2/50;C08F4/72;C07F7/30;A61K6/887;A61K6/62 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 郭广迅;李渤 |
地址: | 列支敦*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明涉及通式为[R |
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搜索关键词: | 酰基锗光 引发 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
根据通式(I)的酰基锗化合物,[RmAr─(C=O)─]4─Ge (I)其中变量具有以下含义:Ar为具有6至18个环碳原子的单环或多环烃基,其可以被R基团取代m次,并且其可以在环中包含一个或多个杂原子,其中m是0至6的整数,并且不能大于Ar中可取代的氢原子的数目,R为卤素,NR12,OH,OSiR23,(C=O)R3,CN,NO2,CF3,COOR4,或C1‑至C20‑烷基、‑烯基、‑烷氧基或‑链烯氧基,所述C1‑至C20‑烷基、‑烯基、‑烷氧基或‑链烯氧基可以是直链的、支链的或环状的,其可以被一个或多个O原子中断,并且其可以包含可自由基聚合的基团,或=O,其中R1‑R3在每种情况下彼此独立地为H,或直链或支链C1‑至C12‑烷基,和R4为H,直链或支链C1‑至C12‑烷基或SiR53,其中R5为直链或支链C1‑至C10‑烷基。
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