[发明专利]基于互补电流场效应晶体管装置的参考产生器和电流源晶体管在审
申请号: | 201680056758.4 | 申请日: | 2016-07-29 |
公开(公告)号: | CN108140614A | 公开(公告)日: | 2018-06-08 |
发明(设计)人: | S·M·朔贝尔;R·C·朔贝尔 | 申请(专利权)人: | 电路种子有限责任公司 |
主分类号: | H01L21/8238 | 分类号: | H01L21/8238;H01L27/02 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 现有的与绝对温度成比例(PTAT)/与绝对温度互补(CTAT)参考电压电路需要一种对准确度和对温度及湿度的不符合要求的灵敏度误差或变化进行匹配的较大组件计数和占地面积的精确装置。本发明涉及一种用于这种基于一对自偏置互补的n型和P型电流场效应晶体管的参考电压电路的新颖方法,所述方法提供轨道PTAT、轨道CTAT和模拟参考电压。 | ||
搜索关键词: | 参考电压电路 场效应晶体管装置 场效应晶体管 电流源晶体管 模拟参考电压 参考产生器 灵敏度误差 准确度 互补电流 大组件 自偏置 轨道 匹配 | ||
【主权项】:
一种与绝对温度成比例参考电压电路,包括:一对互补的n型电流场效应晶体管(NiFET)和P型电流场效应晶体管(PiFET),所述NiFET和PiFET中的每个包括:所述PiFET和NiFET中的所述每个的源极端子、漏极端子、栅极端子和对应导电类型的扩散端子,界定所述源极端子与所述扩散端子之间的源极沟道以及所述漏极端子与所述扩散端子之间的漏极沟道,所述扩散端子引起整个所述源极和漏极沟道中的所述扩散电荷密度的改变,且所述栅极端子电容耦合到所述源极沟道和所述漏极沟道;其中所述PiFET的所述栅极端子和所述NiFET的所述栅极端子连接在一起以形成共用栅极端子,所述NiFET的所述源极端子连接到负电源且所述PiFET的所述源极端子连接到正电源,且所述NiFET和所述PiFET的漏极端子连接在一起以形成输出;且其中所述互补对的所述共用栅极与所述互补对的所述输出连接在一起以用于产生模拟零参考电压,在所述PiFET的所述扩散端子处提供正轨道与绝对温度互补(或CTAT)参考电压输出且在所述NiFET的所述扩散端子处提供负轨道与绝对温度成比例(或PTAT)参考电压输出。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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