[发明专利]曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光方法在审
申请号: | 201680057221.X | 申请日: | 2016-09-29 |
公开(公告)号: | CN108139688A | 公开(公告)日: | 2018-06-08 |
发明(设计)人: | 青木保夫;原笃史;下山隆司;川口透;岛竹克大;野田伊织 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/22 | 分类号: | G03F7/22;G03F7/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 刘杨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种液晶曝光装置,经由投影光学系统(16)以照明光使基板(P)曝光,其具备:保持基板(P)的基板保持具(34)、包含读头单元(60)与标尺(52、56)并根据读头单元(60)的输出取得基板保持具(34)的位置信息的基板编码器系统(50)、以及使基板保持具(34)上的读头单元(60)与标尺(52)中的一方相对于另一方相对移动的驱动部。 | ||
搜索关键词: | 基板保持具 读头单元 基板 标尺 投影光学系统 液晶曝光装置 编码器系统 平面显示器 曝光 曝光装置 相对移动 组件制造 照明光 驱动 输出 制造 | ||
【主权项】:
一种曝光装置,经由投影光学系统以照明光使物体曝光,其中,前述曝光装置具备:保持部,保持前述物体;位置测量部,包含测量部与被测量部,根据前述测量部的输出取得前述保持部的位置信息;以及第1驱动部,使前述保持部上的前述测量部与前述被测量部中的一方相对于另一方相对移动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康,未经株式会社尼康许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680057221.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种光刻设备和光刻系统
- 下一篇:曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法