[发明专利]曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法

摘要

液晶曝光装置，设有保持基板(P)之基板保持具(34)，具备测量系统，该测量系统具有在X轴方向彼此分离配置之多个标尺(52)、对标尺照射测量光束且能在Y轴方向移动之多个读头(66x,66y)、以及测量多个读头在Y轴方向之位置信息之测量装置，根据至少三个读头之测量信息与前述测量装置之测量信息，测量基板保持具在水平面内3自由度方向之位置信息，多个读头，在基板保持具往X轴方向之移动中从多个标尺中之一个脱离且移至与该一个标尺相邻之另一标尺，将使用该移转之读头读头以控制基板保持具之移动之修正信息，根据至少三个读头之测量信息来取得。

主权项

一种曝光装置，透过光学系对物体照射照明光，其具备：移动体，配置于前述光学系的下方，保持前述物体；驱动系，能在与前述光学系的光轴正交的既定平面内彼此正交的第1方向、第2方向移动前述移动体；测量系，具有：格子构件，具有在前述第1方向彼此分离配置的多个格子区域；多个读头，对前述格子构件分别照射测量光束且能在前述第2方向移动；以及测量装置，测量在前述第2方向上的前述多个读头的位置信息，该测量系设置成前述格子构件和前述多个读头中之一方设于前述移动体，且前述格子构件和前述多个读头中之另一方与前述移动体对向，该测量系根据前述多个读头之中的、前述测量光束照射于前述多个格子区域中的至少一个格子区域的至少三个读头的测量信息和前述测量装置的测量信息，测量至少在前述既定平面内的3个自由度方向上的前述移动体的位置信息；以及控制系，根据由前述测量系测量的位置信息，控制前述驱动系；前述多个读头分别在前述移动体向前述第1方向的移动中，其前述测量光束从前述多个格子区域中之一个格子区域脱离且移至与前述一个格子区域相邻的另一格子区域；前述控制系根据前述至少三个读头的测量信息或使用前述至少三个读头测量的前述移动体的位置信息，取得用于使用前述多个读头中的、从前述一个格子区域脱离的前述测量光束移至前述另一格子区域的、与前述至少三个读头不同的读头来控制前述移动体的移动的修正信息。