[发明专利]具有改善性质的无摩擦锻造铝合金溅射靶在审
申请号: | 201680057450.1 | 申请日: | 2016-07-26 |
公开(公告)号: | CN108026634A | 公开(公告)日: | 2018-05-11 |
发明(设计)人: | S.菲拉斯;S.孙达拉;F.C.阿尔福德;J.J.谢菲尔;S.D.斯特罗瑟斯 | 申请(专利权)人: | 霍尼韦尔国际公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;B22D11/00;C22C21/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 赵苏林;万雪松 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及包含平均晶粒尺寸为约15至55微米的锻造铝材料的溅射靶。所述铝材料具有以下性质的至少一种:具有带化因子B测定值低于约0.01的最小织构带化的均匀织构;低于0.2的织构梯度H;或以在多个方向反极图的最大强度小于3倍随机性为特征的弱(200)织构或接近随机的织构。 | ||
搜索关键词: | 具有 改善 性质 摩擦 锻造 铝合金 溅射 | ||
【主权项】:
1.一种溅射靶,其包括:平均晶粒尺寸为约15至55微米的锻造铝或铝合金材料,所述铝或铝合金材料具有以下性质的至少一种:具有带化因子B测定值低于约0.01的最小织构带化的均匀织构;低于0.2的织构梯度H;或以在多个方向反极图的最大强度小于3倍随机性为特征的弱(200)织构或接近随机的织构。
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