[发明专利]具有优异基材相容性和优越镀液稳定性的酸性半水性氟化物活化的抗反射涂层清洁剂在审
| 申请号： | 201680057581.X | 申请日： | 2016-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN109153914A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | C-P·S·许;C-H·W·韦;C-H·L·汤;H·C·杨 | 申请（专利权）人： | 安万托特性材料公司;C-P·S·许;C-H·W·韦;C-H·L·汤;H·C·杨 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08;G03F7/42;H01L21/02;H01L21/306;H01L21/311 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈文平 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本文提供了一种新颖的酸性氟化物活化的清洁化学品，其具有高效的ARC去除、清洁能力和对多种材料的优异相容性。本发明描述的组合物在FEOL、BEOL和FPD应用中提供ARC去除、PR剥离、蚀刻/灰分残余物清洁和CMP残余物去除，同时提供优异的基材相容性、pH稳定性、镀液稳定性，且不发生不期望的表面改性。 | ||
| 搜索关键词： | 相容性 镀液稳定性 活化 基材 去除 清洁剂 蚀刻 残余物去除 抗反射涂层 清洁化学品 酸性氟化物 表面改性 清洁能力 残余物 氟化物 剥离 清洁 期望 应用 | ||
【主权项】：
1.一种用于微电子应用的清洁组合物，其包含约0.05重量％至约5.0重量％的二氟氢根化合物、约0.01重量％至约5重量％的pH稳定化相容性增强剂、约5重量％至约90重量％的有机溶剂和约5％至约90％的水。
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