[发明专利]光学结构及光学光检测系统在审

专利信息
申请号: 201680059897.2 申请日: 2016-08-18
公开(公告)号: CN108139328A 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: 应仪如;谢铮鸣 申请(专利权)人: 新加坡科技研究局
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64;H01P5/00
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 黎雷
地址: 新加坡*** 国省代码: 新加坡;SG
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摘要: 提供一种光学结构,所述光学结构包括用于接收芯片的开口,所述芯片包括多个井,所述多个井用于接收待分析的流体样品,以及包括多个孔的光学掩膜,所述光学掩膜被定位成贴近所述开口,使得当所述芯片在所述开口中被接收时所述光学掩膜面向所述芯片。此外,所述多个孔被配置为延伸穿过所述光学掩膜以接收和引导分别来自所述多个井的光。还提供一种包括所述光学结构的光学光检测系统、一种制造所述光学结构的方法、以及一种组装所述光学荧光检测系统的方法。
搜索关键词: 光学结构 光学掩膜 光检测系统 开口 芯片 光学荧光 检测系统 接收芯片 流体样品 延伸穿过 组装 配置 制造 分析
【主权项】:
一种光学结构,包括:开口,用于接收芯片,所述芯片包括多个井,所述多个井用于接收待分析的流体样品于其中;以及光学掩膜,包括多个孔,其中所述光学掩膜被定位成贴近所述开口,使得当所述芯片在所述开口中被接收时,所述光学掩膜面向所述芯片,且其中所述多个孔被配置为延伸穿过所述光学掩膜以用于接收及引导分别来自所述多个井的光。
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