[发明专利]用于快速退火含有铟顶层的薄层堆叠体的方法在审
| 申请号： | 201680060452.6 | 申请日： | 2016-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN108137395A | 公开（公告）日： | 2018-06-08 |
| 发明（设计）人： | A.迪盖;N.梅卡迪耶;J.斯科尔斯基;M.奥尔文;C.约瑟夫;Y.邦圣科姆 | 申请（专利权）人： | 法国圣戈班玻璃厂 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 黄念 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及热处理方法，其包括在含有氧气(O2)的气氛下，用具有500‑2000nm的波长的电磁辐射照射包含玻璃片材的基材，该玻璃片材在其表面之一上涂覆有薄层堆叠体，其中所述电磁辐射由面向所述薄层堆叠体放置的发射装置发出，在所述发射装置和所述基材之间产生相对位移以便在短于1秒，优选短于0.1秒的短暂持续时间期间将所述薄层堆叠体升高到至少等于300℃的温度。所述方法的特征在于所述堆叠体的与气氛接触的被称为顶层的最后层为铟金属层或铟基合金层。本发明还涉及用于实施这种方法的基材和可通过这种方法获得的基材。 | ||
| 搜索关键词： | 堆叠体 薄层 基材 发射装置 玻璃片材 顶层 持续时间期间 电磁辐射照射 电磁辐射 热处理 快速退火 相对位移 铟基合金 铟金属层 波长 涂覆 优选 氧气 升高 | ||
【主权项】：
一种热处理方法，其包括在含有氧气(O2)的气氛下，用具有500‑2000nm的波长的电磁辐射照射包含透明片材，优选玻璃片材的基材，该片材在其表面之一上涂覆有薄层堆叠体，其中所述电磁辐射由面向所述薄层堆叠体放置的发射装置发出，在所述发射装置和所述基材之间产生相对位移以便在短于1秒，优选短于0.1秒的短暂持续时间期间将所述薄层堆叠体升高到至少等于300℃的温度，所述方法的特征在于所述堆叠体的与该气氛接触的被称为顶层的最后层为铟金属层或铟基合金金属层。
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