[发明专利]研磨用组合物有效
| 申请号： | 201680061334.7 | 申请日： | 2016-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN108350344B | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 杉田规章;知念美佳;松下隆幸;松田修平 | 申请（专利权）人： | 霓达杜邦股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;B24B37/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张毅群 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种可实现表面缺陷的抑制和雾度的降低的研磨用组合物。研磨用组合物包含磨粒、选自具有1，2‑二醇结构单元的乙烯醇系树脂中的至少一种水溶性高分子、以及碱化合物，且利用动态光散射法所测定的研磨组合物中的粒子的平均粒径为55nm以下。研磨用组合物优选进一步包含非离子性表面活性剂。另外，研磨用组合物优选还包含多元醇。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 组合 | ||
【主权项】：
1.一种研磨用组合物，其包含：磨粒、选自具有下述通式(1)所表示的1，2‑二醇结构单元的乙烯醇系树脂中的至少一种水溶性高分子、以及碱化合物，并且利用动态光散射法所测定的所述研磨组合物中的粒子的平均粒径为55nm以下，![]()
式中，R1、R2和R3分别独立地表示氢原子或有机基团，X表示单键或键链，R4、R5和R6分别独立地表示氢原子或有机基团，R7和R8分别独立地表示氢原子。
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