[发明专利]用于场成像和/或光瞳成像的光学系统有效
| 申请号： | 201680062181.8 | 申请日： | 2016-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN108351513B | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | H.门兹 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G02B13/14;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于场成像和/或光瞳成像的光学系统(10)包括光轴(16；46)、光阑平面(18；38)以及像平面(20；40)。该光学系统包括透镜系统(11；37)，该透镜系统具有三个透镜组(14a，b，c；42a，b，c)，每个透镜组具有至少一个透镜，这些透镜组被安排成在该光阑平面(18；38)与该像平面(20；40)之间沿着该光轴(16；46)是彼此间隔开的，其中，这三个透镜组(14a，b，c；42a，b，c)具有第一透镜材料和/或与该第一透镜材料不同的第二透镜材料。该透镜元件系统(11；37)被进一步设计为傅里叶光学单元(12；36)，该傅里叶光学单元另外包括进一步透镜组(14d；42d)，该进一步透镜组被安排成在该光阑平面(18；38)与该像平面(20；40)之间沿着该光轴(16；46)与这三个透镜组(14a，b，c；42a，b，c)彼此间隔开并且具有至少一个透镜，该进一步透镜组包括该第一透镜材料和/或该第二透镜材料，其中，该傅里叶光学单元(12；36)的这四个透镜组(14a，c；42b，d)中的两个被设计为与该场成像和/或该光瞳成像的纵向色差有关的第一和第二颜色欠校正透镜组，其中，该傅里叶光学单元(12；36)的这四个透镜组(14b，d；42a，c)中的另外两个被设计为第一和第二颜色过校正透镜组，其中，该傅里叶光学单元(12；36)具有颜色欠校正透镜元件组和颜色过校正透镜元件组在各自情况下的交替序列。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 成像 光学系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于场成像和/或光瞳成像的光学系统(10)，该光学系统具有光轴(16；46)、光阑平面(18；38)以及像平面(20；40)，具有透镜元件系统(11；37)，该透镜元件系统具有三个透镜元件组(14a，b，c；42a，b，c)，每个透镜元件组具有至少一个透镜元件，所述透镜元件组被安排成在该光阑平面(18；38)与该像平面(20；40)之间沿着该光轴(16；46)是彼此间隔开的，其中这三个透镜元件组(14a，b，c；42a，b，c)具有第一透镜元件材料和/或与该第一透镜元件材料不同的第二透镜元件材料，其特征在于，该透镜元件系统(11；37)被实施为另外具有带至少一个透镜元件的一个进一步透镜元件组(14d；42d)的傅立叶光学单元(12；36)，所述进一步透镜元件组被安排成在该光阑平面(18；38)与该像平面(20；40)之间沿着该光轴(16；46)与这三个透镜元件组(14a，b，c；42a，b，c)相距一定距离并且具有该第一透镜元件材料和/或该第二透镜元件材料，其中，该傅里叶光学单元(12；36)的这四个透镜元件组(14a，c；42b，d)中的两个被实施为与该场成像和/或该光瞳成像的纵向色差有关的第一和第二颜色欠校正透镜元件组，其中，该傅里叶光学单元(12；36)的这四个透镜元件组(14b，d；42a，c)中的另外两个被实施为第一和第二颜色过校正透镜元件组，其中，该傅里叶光学单元(12；36)具有颜色欠校正透镜元件组和颜色过校正透镜元件组在各自情况下的交替序列。
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