[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、图案形成方法及电子器件的制造方法在审
| 申请号： | 201680062519.X | 申请日： | 2016-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN108351592A | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 吉野文博 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004;G03F7/038 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 曹阳 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用了该感光化射线性或感放射线性树脂组合物的图案形成方法及电子器件的制造方法，本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物用于形成膜厚为1μm以上的感光化射线性或感放射线性膜，并且用于进行基于波长200～300nm的光化射线或放射线的曝光，其中，由所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的膜厚12μm的感光化射线性或感放射线性膜中的对波长248nm的光的透射率为5％以上，且使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物，并通过波长200～300nm的光来对膜厚为1μm以上的感光化射线性或感放射线性膜进行曝光时，能够形成灵敏度优异，并且具有优异的剖面形状的图案。 | ||
| 搜索关键词： | 感光 射线 感放射线性树脂组合物 感放射线性 波长 膜厚 电子器件 图案形成 光化射线 剖面形状 放射线 灵敏度 曝光 透射率 制造 图案 | ||
【主权项】：
1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其用于形成膜厚为1μm以上的感光化射线性或感放射线性膜，并且用于进行基于波长200～300nm的光化射线或放射线的曝光，其中，由所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的膜厚12μm的感光化射线性或感放射线性膜中的对波长248nm的光的透射率为5％以上。
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