[发明专利]喷嘴和包括该喷嘴的基板处理设备以及基板处理方法

摘要

本发明涉及一种基板处理设备。根据本发明，该基板处理设备包括：为处理基板提供空间的腔室；设置在腔室中并用于支撑基板的支撑单元；向由支撑单元支撑的基板供应清洗介质的喷嘴。其中该喷嘴包括收缩部、扩张部和孔口。收缩部具有入口，通过该入口流入清洗介质，且该收缩部具有随着远离入口而减小的截面面积。扩张部具有喷射孔，通过喷射孔喷射清洗介质，且该扩张部具有随着靠近喷射孔而增加的截面面积。孔口位于收缩部和扩张部之间。其中流入到收缩部中的清洗介质是单一气体。

主权项

1.一种基板处理设备，包括：腔室，所述腔室配置为提供用于处理基板的空间；支撑单元，所述支撑单元设置在所述腔室中并被配置成支撑所述基板；和喷嘴，所述喷嘴配置为向由所述支撑单元支撑的所述基板供应清洗介质，其中，所述喷嘴包括：收缩部，所述收缩部具有入口，通过所述入口引入所述清洗介质，并且所述收缩部的截面面积随着远离所述入口而减小；扩张部，所述扩张部具有喷射孔，通过所述喷射孔喷射所述清洗介质，并且所述扩张部的截面面积随着靠近所述喷射孔而增加；和孔口，所述孔口位于所述收缩部和所述扩张部之间，以及其中，引入到所述收缩部中的所述清洗介质是单一气体。