[发明专利]含有光不稳定过渡金属络合物的氧化还原可聚合组合物

摘要

本发明公开了包含氧化还原引发剂体系的可聚合组合物。所述氧化还原引发剂体系包含光不稳定过渡金属络合物，所述光不稳定过渡金属络合物光解和引发所述氧化还原循环。本发明也描述了牙科用组合物，所述牙科用组合物包含牙科用树脂和所述光不稳定氧化还原引发剂体系。

主权项

1.一种可聚合组合物，包含：可聚合烯属不饱和组分和氧化还原引发体系，所述氧化还原引发体系包含：a)氧化剂b)还原剂，和c)具有以下式的光不稳定过渡金属络合物：其中R光为光不稳定基团；M+为参与氧化还原循环的过渡金属；X1和X2各自独立地选自‑N‑、‑S‑和‑O‑；X3和X4各自独立地选自‑NR1‑和‑S‑；每个R1独立地选自H、烷基、环烷基、杂环烷基、芳基烷基、杂芳基烷基、烷氧基、卤素、甲酰基、羟基、酰基、芳氧基、烷硫基、氨基、烷基氨基、芳基烷基氨基、二取代的氨基、酰基氨基、酰氧基、酯、酰胺和羧基烷基；每个相邻对的R1和R2可以独立地形成具有相应的杂原子X3或X4的杂环烷基或杂芳基基团；R2、R3、R4、R5、R6和R7中的每个独立地选自H、烷基、烯基、炔基、环烷基、环烷基烷基、环烷基烯基、环烷基炔基、杂环基、杂环烷基、杂环烯基、杂环炔基、芳基、芳基烷基、芳基烯基、芳基炔基、杂芳基、杂芳基烷基、杂芳基烯基、杂芳基炔基、烷氧基、卤素、巯基、叠氮基、氰基、甲酰基、羧酸、羧基烷基、羟基、硝基、酰基、芳氧基、烷硫基、氨基、烷基氨基、芳基烷基氨基、二取代的氨基、酰氨基、酰氧基、酯、酰胺、磺酰基、磺酰基、磺酸酯、磺酸、磺酰胺、脲、烷氧基酰氨基和氨基酰氧基；条件是当R1和R2与各自的杂原子X3‑X4形成杂芳基基团时，R3不存在；R4和R5能够一起形成氧代基；或者R6和R7能够一起形成氧代基；x为1至2；以及y为1至3；或其盐。