[发明专利]液晶显示装置及液晶显示装置的制造方法在审
申请号: | 201680064694.2 | 申请日: | 2016-11-15 |
公开(公告)号: | CN108351558A | 公开(公告)日: | 2018-07-31 |
发明(设计)人: | 山田悟;金子若彦;田锅秀人 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/1333;G09F9/00;G09F9/30 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 曹阳 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的课题在于提供一种在观察侧设置有滤色器的情况下也维持优异的平坦性,且在暴露于高温高湿下的情况下显示性能也良好的液晶显示装置及其制造方法。本发明的液晶显示装置自观察侧起依次具有第1基板、液晶层及第2基板,其中,第1基板具备基材及取向保护层,第2基板具备基材、薄膜晶体管、显示电极及取向膜,取向保护层具有与液晶层接触的面,取向保护层具有经由共价键而相互连接的取向性基团及交联结构,关于通过飞行时间二次离子质谱法所检测出的源自取向性基团的片段,取向保护层的与液晶层接触的面中片段的强度ELq、与取向保护层的基材侧的面中片段的强度ESub满足规定的关系,且交联结构由规定的结构式表示。 | ||
搜索关键词: | 保护层 取向 液晶显示装置 液晶层 基材 交联结构 第1基板 取向性 飞行时间二次离子质谱 薄膜晶体管 高温高湿 显示电极 显示性能 第2基板 共价键 滤色器 平坦性 取向膜 观察 基板 制造 暴露 检测 | ||
【主权项】:
1.一种液晶显示装置,自观察侧起依次具有第1基板、液晶层及第2基板,其中,所述第1基板具备基材及取向保护层,所述第2基板具备基材、薄膜晶体管、显示电极及取向膜,所述取向保护层具有与所述液晶层接触的面,所述取向保护层具有经由共价键而相互连接的取向性基团及交联结构,关于通过飞行时间二次离子质谱法所检测出的源自所述取向性基团的片段,所述取向保护层的与所述液晶层接触的面中源自所述取向性基团的片段的质谱的强度ELq、与所述取向保护层的所述基材侧的面中源自所述取向性基团的片段的质谱的强度ESub满足下述条件1或条件2,所述交联结构包含由下述式(A‑1)~式(A‑3)所表示的任意结构,条件1:强度ELq为强度ESub的2倍~20倍;条件2:强度ELq被有效地测定,强度ESub为测定界限以下;[化学式1]其中,所述式(A‑1)~式(A‑3)中,*表示键合位置,所述式(A‑3)中,R1表示氢原子或碳原子数1~6的烷基。
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