[发明专利]用于光掩模背侧清洁的设备及方法有效
申请号: | 201680067323.X | 申请日: | 2016-11-10 |
公开(公告)号: | CN108292092B | 公开(公告)日: | 2021-03-02 |
发明(设计)人: | 杰森·赖伊;凯尔·莫兰·汉森 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;G03F7/20;H01L21/02;H01L21/027 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁挥;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 用于清洁光掩模的设备包括在头部中的转子,其中转子具有包括中心开口的密封板、在中心开口中的弹性掩模密封件、和附接至弹性掩模密封件且适用于移动弹性掩模密封件至开启及关闭位置中的牵拉器。在头部中的马达旋转转子。在头部中的推板移动以操作牵拉器。当在关闭位置中时弹性掩模密封件对光掩模的侧边密封。光掩模的背侧可接着被清洁而不会影响光掩模的图案化的前侧。 | ||
搜索关键词: | 用于 光掩模背侧 清洁 设备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于保持光掩模的转子,所述转子包含:密封板,所述密封板具有中心开口;弹性掩模密封件,所述弹性掩模密封件在所述中心开口中,其中所述弹性掩模密封件具有第一侧边、第二侧边、第三侧边和第四侧边;和分别在所述第一侧边、第二侧边、第三侧边和第四侧边处的第一牵拉器、第二牵拉器、第三牵拉器和第四牵拉器,其中所述第一牵拉器、第二牵拉器、第三牵拉器和第四牵拉器各包括分别附接至所述弹性掩模密封件的所述第一侧边、第二侧边、第三侧边和第四侧边的牵拉器框架,且其中各个牵拉器能沿径向方向向外移动,以移动所述弹性掩模密封件至开启位置中,且其中各个牵拉器能沿径向方向向内移动,以移动所述弹性掩模密封件至关闭位置中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司,未经应用材料公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680067323.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备