[发明专利]气体阻隔性膜、照明装置和显示装置有效
申请号: | 201680067353.0 | 申请日: | 2016-10-03 |
公开(公告)号: | CN108349211B | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 铃木一生;新真琴 | 申请(专利权)人: | 柯尼卡美能达株式会社 |
主分类号: | B32B9/00 | 分类号: | B32B9/00;C23C16/42;H01L51/50;H05B33/04 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 苗堃;赵雁 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的课题在于提供不仅气体阻隔性而且透明性也优异的气体阻隔性膜、照明装置和显示装置。本发明的气体阻隔性膜的特征在于,在基膜的至少一侧的表面上具有至少含有Si原子、O原子和C原子的气体阻隔层,气体阻隔层中的利用X射线光电子能谱法得到的C含量的平均值为15atm%以下,且基于气体阻隔层的层厚的深度方向的C1s的波形分析的相对于C-SiO键、C-C键、C-O键、C=O键和C=OO键的合计量(100%)的C=O键和C=OO键的总和的平均值为8%以下。另外,其特征在于,由气体阻隔层的深度方向的C1s的波形分析得到的C-C键的比率的最大的极值和最小的极值之差为15%~95%。 | ||
搜索关键词: | 气体 阻隔 照明 装置 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种气体阻隔性膜,其特征在于,在基膜的至少一侧的表面上具有至少含有Si原子、O原子和C原子的气体阻隔层,所述气体阻隔层中的利用X射线光电子能谱法得到的C含量的平均值为15atm%以下,且基于所述气体阻隔层的层厚的深度方向的C1s的波形分析的相对于C-SiO键、C-C键、C-O键、C=O键和C=OO键的合计量(100%)的C=O键和C=OO键的总和的平均值为8%以下。
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