[发明专利]一种通过气相沉积方法涂覆一根或多根线材的装置有效

专利信息
申请号: 201680067966.4 申请日: 2016-11-18
公开(公告)号: CN108350573B 公开(公告)日: 2020-09-08
发明(设计)人: 埃米利安·布特;西蒙·蒂博;阿德里安·德尔康;塞德里克·德康 申请(专利权)人: 赛峰集团陶瓷
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C16/54
代理公司: 中国商标专利事务所有限公司 11234 代理人: 宋义兴;曾海艳
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种使用气相沉积方法涂覆一根或多根线材(2)的装置(1),所述装置至少包括:处理室(4),其沿着纵向轴线(X)延伸并包括位于内部圆周壁(5)和外部圆周壁(7)之间的至少一个处理区域(4a),并且其中至少一根线材(2)旨在使用气相沉积方法进行涂覆;输送器系统,设计成将所述至少一根线材(2)通过所述处理区域(4a)输送;注入器装置,设计成通过设置在所述内部圆周壁(5)或外部圆周壁(7)中的至少一个入口孔(7a)将处理气相(10a)注入所述处理区域(4a)中;排出装置,设计成通过设置在内部圆周壁(5)或外部圆周壁(7)中的至少一个出口孔(8a)将残余气相(11a)从处理区域(4a)排出,所述入口孔(7a)和所述出口孔(8a)位于与处理室(4)的纵向轴线(X)垂直并且围绕处理室(4)的圆周方向(C)偏移的公共平面(P)中。
搜索关键词: 一种 通过 沉积 方法 一根 线材 装置
【主权项】:
1.一种通过气相沉积方法涂覆一根或多根线材(2)的装置(1),该装置至少包括:‑处理室(4),其沿着纵向轴线(X)延伸且具有位于内部圆周壁(5)和外部圆周壁(7)之间的至少一个处理区域(4a),并且其中至少一根线材(2)通过进行气相沉积方法进行涂覆;‑输送器系统(6),其被配置为通过处理区域(4a)输送所述至少一根线材(2);‑注入器装置,其被配置为通过设置于内部或外部圆周壁(5或7)中的至少一个入口孔(7a)将处理气相(10a)注入处理区域(4a)中;以及‑排出装置,其被配置为通过设置于内部或外部圆周壁(5或7)中的至少一个出口孔(8a)将残余气相(11a)从处理区域(4a)排出,所述入口孔(7a)和所述出口孔(8a)位于垂直于处理室(4)的纵向轴线(X)并且围绕处理室(4)的圆周方向(C)偏移的公共平面(P)中。
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