[发明专利]电极箔的制造方法以及电容器的制造方法有效

专利信息
申请号: 201680068471.3 申请日: 2016-10-27
公开(公告)号: CN108292564B 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 小林恭平;杉原之康;吉田宽;吉村满久;中西弘美 申请(专利权)人: 松下知识产权经营株式会社
主分类号: H01G9/00 分类号: H01G9/00;C25F3/02;H01G9/04;H01G9/055
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李国华
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明所涉及的电极箔的制造方法是制造部分蚀刻的电极箔的方法,包括:第1工序,准备带状的金属箔;第2工序,配置掩蔽构件,使得覆盖所述金属箔的至少一个主面的一部分;和第3工序,在所述第2工序之后,在蚀刻液中,使电极隔着所述掩蔽构件与所述金属箔对置的状态下,在所述金属箔与所述电极之间流过电流,对所述金属箔的所述主面部分地进行蚀刻,所述掩蔽构件是带状,在所述第2工序,所述掩蔽构件配置为沿着所述金属箔的长边方向,并且与所述金属箔的两个端边分离。
搜索关键词: 电极 制造 方法 以及 电容器
【主权项】:
1.一种电极箔的制造方法,制造部分蚀刻的电极箔,所述电极箔的制造方法包括:第1工序,准备带状的金属箔;第2工序,配置掩蔽构件,使得覆盖所述金属箔的至少一个主面的一部分;和第3工序,在所述第2工序之后,在蚀刻液中,使电极隔着所述掩蔽构件与所述金属箔对置的状态下,在所述金属箔与所述电极之间流过电流,对所述金属箔的所述主面部分地进行蚀刻,所述掩蔽构件是带状,在所述第2工序,所述掩蔽构件配置为沿着所述金属箔的长边方向,并且与所述金属箔的两个端边分离。
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