[发明专利]产生薄无机膜的方法

摘要

本发明属于在基材上产生薄无机膜的方法，特别是原子层沉积法的领域。本发明涉及一种包括使通式(I)化合物变为气态或气溶胶状态并使气态或气溶胶状态的通式(I)化合物沉积在固体基材上的方法，其中M为Mn、Ni或Co，X为与M配位的配体，n为0、1或2，R1、R2为烷基、链烯基、芳基或甲硅烷基，m为1、2或3，R3、R4和R5为烷基、链烯基、芳基、烷氧基或芳氧基，且p为1、2或3。

主权项

1.一种包括使通式(I)化合物变为气态或气溶胶状态并使气态或气溶胶状态的通式(I)化合物沉积在固体基材上的方法，其中M为Mn、Ni或Co，X为与M配位的配体，n为0、1或2，R1、R2为烷基、链烯基、芳基或甲硅烷基，m为1、2或3，R3、R4和R5为烷基、链烯基、芳基、烷氧基或芳氧基，且p为1、2或3。