[发明专利]控制光刻设备的方法和器件制造方法、用于光刻设备的控制系统及光刻设备有效
| 申请号： | 201680071426.3 | 申请日： | 2016-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN108369382B | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | E·M·赫尔斯埃博;P·A·J·蒂内曼斯;R·布林克霍夫;P·J·赫利斯;J·K·卢卡什;L·J·P·维尔希斯;I·M·A·范唐克拉尔;F·G·C·比基恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在一种控制光刻设备的方法中，使用历史性能测量值(512)计算与光刻过程相关的过程模型(PM)。测量设置在当前衬底上的多个对准标记的当前位置(502)且使用所述当前位置计算与当前衬底相关的衬底模型。另外，使用(530)在处理先前衬底时所获得的历史位置测量值(522)和历史性能测量值以计算模型映射(M)。应用(520)该模型映射以修改该衬底模型。一起使用过程模型和被修改的衬底模型(SM′)(PSM)来控制(508)该光刻设备。通过避免过程模型和衬底模型的相关分量的过校正或欠校正来改善重叠性能。模型映射可以是子空间映射，且可以在使用该模型映射之前减少该模型映射的维度。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 光刻 设备 方法 器件 制造 用于 控制系统 | ||
【主权项】：
1.一种控制光刻设备的方法，所述方法包括以下步骤：(a)获得表示在将图案施加至多个先前衬底时的光刻过程的性能的历史性能测量值；(b)使用所述历史性能测量值计算关于所述光刻过程的过程模型；(c)在将当前衬底加载至光刻设备中之后，测量设置于所述当前衬底上的多个对准标记的当前位置；(d)使用测量的所述当前位置计算关于所述当前衬底的衬底模型；和(e)将所述过程模型和所述衬底模型一起使用来控制所述光刻设备，其中所述方法还包括：(f)获得在处理所述先前衬底时所获得的历史位置测量值；(g)将所述历史位置测量值和所述历史性能测量值一起使用计算模型映射；和(h)应用所述模型映射修改步骤(d)中所计算的所述衬底模型且将被修改的所述衬底模型用于步骤(e)中。
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