[发明专利]用于在基板上沉积材料的设备、用于在基板上沉积一个或多个层的系统和用于监视真空沉积系统的方法在审
| 申请号： | 201680071483.1 | 申请日： | 2016-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN108431294A | 公开（公告）日： | 2018-08-21 |
| 发明（设计）人： | 迪特尔·哈斯;斯蒂芬·班格特;乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波;佩曼·哈米吉尔;克里斯托弗·于尔根·汉森 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开内容提供一种用于在基板(10)上沉积材料的设备(100)。设备(100)包括真空腔室(110)；至少一个沉积源(120)，位于真空腔室(110)中；塑形装置(130)，位于所述至少一个沉积源(120)处，其中塑形装置(130)经构造以阻挡至少一部分从所述至少一个沉积源(120)发射的材料；和摄影机装置(140)，位于真空腔室(110)中，其中摄影机装置(140)经构造以监视塑形装置(130)上的材料累积。 | ||
| 搜索关键词： | 塑形装置 真空腔室 沉积源 基板 摄影机装置 沉积材料 监视 真空沉积系统 材料累积 内容提供 沉积 阻挡 发射 | ||
【主权项】：
1.一种用于在基板上沉积材料的设备，包括：真空腔室；至少一个沉积源，位于所述真空腔室中；塑形装置，位于所述至少一个沉积源处，其中所述塑形装置经构造以阻挡至少一部分从所述至少一个沉积源发射的所述材料；和摄影机装置，位于所述真空腔室中，其中所述摄影机装置经构造以监视所述塑形装置上的材料累积。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司，未经应用材料公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680071483.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
