[发明专利]高熵合金构件、该合金构件的制造方法、及使用了该合金构件的制造物有效

专利信息
申请号: 201680071488.4 申请日: 2016-11-08
公开(公告)号: CN108431262B 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 藤枝正;桑原孝介;广田守;青田欣也;加藤隆彦;千叶晶彦;小泉雄一郎;山中谦太 申请(专利权)人: 日立金属株式会社
主分类号: C22C30/00 分类号: C22C30/00;B22F1/00;B22F3/105;B22F3/16;B22F9/08;F04D29/02;F04D29/28;B33Y10/00;B33Y80/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军;李国卿
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的目的在于提供使用具有高机械强度·高耐腐蚀性的高熵合金(HEA)、合金组成·微细组织的均质性优异、并且形状控制性优异的HEA构件、其制造方法、及使用了该HEA构件的制造物。本发明涉及的HEA构件的特征在于,其是由HEA形成的合金构件,其具有下述的化学组成:分别以5原子%以上35原子%以下的范围包含Co、Cr、Fe、Ni、Ti各元素,并且以大于0原子%且为8原子%以下的范围包含Mo,剩余部分由不可避免的杂质构成,前述合金构件中,在母相结晶中分散析出了针状结晶的金属间化合物相。
搜索关键词: 合金 构件 制造 方法 使用
【主权项】:
1.高熵合金构件,其特征在于,其是由高熵合金形成的合金构件,其具有下述的化学组成:分别以5原子%以上35原子%以下的范围包含Co、Cr、Fe、Ni、Ti各元素,并且以大于0原子%且为8原子%以下的范围包含Mo,剩余部分由不可避免的杂质构成,所述合金构件中,在母相结晶中分散析出了针状结晶的金属间化合物相。
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