[发明专利]光学元件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201680071819.4 申请日: 2016-10-06
公开(公告)号: CN108474976B 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 佐佐木友之;小野浩司;川月喜弘;后藤耕平 申请(专利权)人: 公立大学法人兵库县立大学;国立大学法人长冈技术科学大学;日产化学工业株式会社
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13;C09K19/20;C09K19/30;C09K19/32;C09K19/38;G02B5/30;G02F1/1337
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供能将液晶的取向在液晶元件内的任意位置控制为任意状态的元件、具体而言为光学元件、和/或用于制作该元件的制造方法。本发明提供一种光学元件,其是依次具有I)第一透明基体层;II)取向处理过的第一液晶取向膜层;III)填充光反应性液晶组合物的液晶层;及IV)第二透明基体层而形成的光学元件,III)层中的光反应性液晶组合物具有:(A)具有发生选自由(A‑1)光交联和(A‑2)光异构化组成的组中的至少1种反应的光反应性侧链的光反应性高分子液晶;及(B)低分子液晶。
搜索关键词: 光学 元件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种光学元件,其是依次具有I)第一透明基体层;II)取向处理过的第一液晶取向膜层;III)填充光反应性液晶组合物的液晶层;IV)第二透明基体层而形成的光学元件,所述III)层中的光反应性液晶组合物具有:(A)具有发生选自由(A‑1)光交联和(A‑2)光异构化组成的组中的至少1种反应的光反应性侧链的光反应性高分子液晶;以及(B)低分子液晶。
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