[发明专利]用于制作安全文件的方法在审

专利信息
申请号: 201680072815.8 申请日: 2016-12-14
公开(公告)号: CN108367585A 公开(公告)日: 2018-08-03
发明(设计)人: 卡洛·约利克;加里·费尔利斯·鲍尔 申请(专利权)人: CCL证券私人有限公司
主分类号: B42D25/30 分类号: B42D25/30;G02B3/00;G06K9/00;G02B27/22
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 梁丽超;田喜庆
地址: 澳大利亚*** 国省代码: 澳大利亚;AU
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摘要: 一种用于制作第一安全文件的方法,该安全文件包括:第一图像元件周期阵列,该第一图像元件周期阵列被应用至透明基底的第一表面且在第一方向上延伸;以及第一显露元件周期阵列,该第一显露元件周期阵列被应用至基底的相对表面且在第二方向上延伸,第一显露元件周期阵列与第一图像元件周期阵列叠加,使得可以在至少第一视角与第二视角之间观察到光学可变效果。该方法包括如下步骤:(a)确定莫尔带的一个或多个特性,由于第一方向与第二方向不同,所以在安全文件相对于观察者在至少第一视角与第二视角之间移动期间,该莫尔带能够或者会被观察到过渡越过第一图像元件周期阵列;(b)将第一图像元件周期阵列和/或第一显露元件周期阵列的至少一个维度约束为小于莫尔带中的至少一个的宽度;以及(c)使得如在步骤(b)中陈述的那样被约束的第一图像元件周期阵列和第一显露元件周期阵列被制作作为安全文件的一部分。
搜索关键词: 图像元件 周期阵列 安全文件 元件周期 显露 视角 基底 观察 制作 光学可变效果 第一表面 移动期间 延伸 维度 叠加 应用 透明
【主权项】:
1.一种用于制作第一安全文件的方法,所述安全文件包括:透明基底;第一图像元件周期阵列,所述第一图像元件周期阵列被应用至所述基底的第一表面且在第一方向上延伸;以及第一显露元件周期阵列,所述第一显露元件周期阵列被应用至所述基底的相对表面且在第二方向上延伸,所述第一显露元件周期阵列与所述第一图像元件周期阵列叠加,使得可以在至少第一视角与第二视角之间观察到光学可变效果,所述方法包括如下步骤:a.确定莫尔带的一个或多个特性,由于所述第一方向与所述第二方向不同,所以在所述安全文件相对于观察者在至少所述第一视角与所述第二视角之间移动期间,所述莫尔带能够或者会被观察到过渡越过所述第一图像元件周期阵列;b.将所述第一图像元件周期阵列和/或所述第一显露元件周期阵列的至少一个维度约束为小于所述莫尔带中的至少一个的宽度;以及c.使得如在步骤(b)中陈述的那样被约束的所述第一图像元件周期阵列和所述第一显露元件周期阵列被制作作为所述安全文件的一部分。
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