[发明专利]光透过性层叠体及光透过性层叠体的制造方法在审
| 申请号： | 201680073827.2 | 申请日： | 2016-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN108367540A | 公开（公告）日： | 2018-08-03 |
| 发明（设计）人： | 犬塚正隆;铃木善丈;后藤修;高尾裕三;楢崎徹司;片山和孝 | 申请（专利权）人： | 住友理工株式会社 |
| 主分类号： | B32B15/08 | 分类号： | B32B15/08;G02B5/26 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨贝贝;臧建明 |
| 地址： | 日本爱知*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种即便在短时间成膜的情况下也满足高折射率薄膜的光透过性及接着性的光透过性层叠体及其制造方法。一种光透过性层叠体10，其依序具有金属薄膜层16、折射率高于金属薄膜层16的高折射率薄膜层14、光透过性基板12，高折射率薄膜层14含有高折射率聚合物及流平剂，高折射率聚合物具有包含选自N、O、S中的至少一种元素的官能基，流平剂的含量相对于高折射率聚合物100质量份而为0.20质量份～20.32质量份的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 光透过性 层叠体 高折射率 聚合物 质量份 高折射率薄膜层 金属薄膜层 流平剂 高折射率薄膜 光透过性基板 官能基 接着性 折射率 成膜 制造 | ||
【主权项】：
1.一种光透过性层叠体，其特征在于，具有：金属薄膜层；折射率高于所述金属薄膜层的高折射率薄膜层；以及光透过性基板，所述高折射率薄膜层含有高折射率聚合物及流平剂，所述高折射率聚合物具有包含选自N、O、S中的至少一种元素的官能基，所述流平剂的含量相对于所述高折射率薄膜层的聚合物100质量份而为0.20质量份～20.32质量份的范围内。
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