[发明专利]可延伸的阻挡膜、采用其的制品及其制造方法有效
| 申请号： | 201680074481.8 | 申请日： | 2016-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN108431103B | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 凯文·W·戈特里克;克里斯托弗·S·莱昂斯;杰拉尔德·S·迪卜;张培慧;罗纳德·P·斯万松 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/048 | 分类号： | C08J7/048;C08J7/06;C08J7/04;B05D7/04;C08L67/02 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 郭国清;穆德骏 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种阻挡膜，所述阻挡膜包括阻挡层，所述阻挡层具有两个相对主表面；第一有机层，所述第一有机层与所述阻挡层的所述相对主表面中的一个直接接触；第二有机层，所述第二有机层与所述阻挡层的所述相对主表面中的另一个直接接触；以及基材，所述基材与所述第一有机层或所述第二有机层直接接触；其中所述阻挡层包括平均间距小于所述第一有机层或所述第二有机层中的屈曲变形的平均间距的屈曲变形。 | ||
| 搜索关键词： | 延伸 阻挡 采用 制品 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种阻挡膜，所述阻挡膜包括：(e)阻挡层，所述阻挡层具有两个相对主表面；(f)第一有机层，所述第一有机层与所述阻挡层的所述相对主表面中的一个直接接触；以及(g)第二有机层，所述第二有机层与所述阻挡层的所述相对主表面中的另一个直接接触；(h)基材，所述基材与所述第一有机层或所述第二有机层直接接触；其中所述阻挡层包括平均间距小于所述第一有机层或所述第二有机层中的屈曲变形的平均间距的屈曲变形。
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