[发明专利]用于高速涂覆的真空沉积装置在审

专利信息
申请号: 201680075464.6 申请日: 2016-12-14
公开(公告)号: CN108474103A 公开(公告)日: 2018-08-31
发明(设计)人: 南庆勋;金相俊;高景弼;金兑烨;严文钟 申请(专利权)人: POSCO公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/54;C23C14/02
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 张晶;赵赫
地址: 韩国庆*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及一种用于高速涂覆的真空沉积装置,该装置包括:真空腔室,内部设有容纳空间;蒸发坩埚,配置在所述容纳空间中,用于蒸发涂覆物质;以及旋风过滤器,配置在所述容纳空间中,所述旋风过滤器分离蒸发所述涂覆物质时产生的蒸汽和粗大粒子。因此,所述用于高速涂覆的真空沉积装置可去除高速涂覆过程中产生的粗大粒子,同时通过在旋风过滤器出口与蒸汽喷射口之间插入导流体来防止蒸汽的旋转,从而能够获得涂覆均匀性优异的涂层。
搜索关键词: 真空沉积装置 旋风过滤器 容纳空间 涂覆 粗大粒子 涂覆物质 蒸汽 蒸发 涂覆均匀性 蒸汽喷射口 涂覆过程 真空腔室 蒸发坩埚 导流体 可去除 配置 出口
【主权项】:
1.一种用于高速涂覆的真空沉积装置,包括:真空腔室,内部设有容纳空间;蒸发坩埚,配置在所述容纳空间中,用于蒸发涂覆物质;以及旋风过滤器,配置在所述容纳空间中,所述旋风过滤器分离蒸发所述涂覆物质时产生的蒸汽和粗大粒子。
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