[发明专利]椭偏仪在审
| 申请号： | 201680075955.0 | 申请日： | 2016-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN108431562A | 公开（公告）日： | 2018-08-21 |
| 发明（设计）人： | 上原诚 | 申请（专利权）人： | 株式会社目白67 |
| 主分类号： | G01J4/04 | 分类号： | G01J4/04;G02B5/30;G02B17/08;G02B5/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李洋;青炜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种椭偏仪，目的是在用于使来自物体面的反射光成像的成像光学系统中使用等倍反射型成像光学系统的椭偏仪中，改善椭偏仪的性能。椭偏仪(100)具备用于使来自物体表面的反射光的光束在受光面成像的成像光学系统(30)。成像光学系统(30)由包含凹面主镜(32)和凸面副镜(34)在内的等倍反射型成像光学系统构成。来自物体表面的反射光的光束按照凹面主镜(32)、凸面副镜(34)、凹面主镜(32)的顺序反射后在受光面(40)成像。等倍反射型成像光学系统包含第一检偏镜(50)和第二检偏镜(52)。第一检偏镜(50)和第二检偏镜(52)由在X轴方向和Y轴方向具有相同折射率的偏振光元件构成。 | ||
| 搜索关键词： | 成像光学系统 检偏镜 椭偏仪 凹面主镜 反射型 物体表面 反射光 受光面 副镜 凸面 成像 反射光成像 偏振光元件 顺序反射 折射率 | ||
【主权项】：
1.一种椭偏仪，其中，具备用于使来自物体表面的反射光的光束在受光面成像的成像光学系统，上述成像光学系统由等倍反射型成像光学系统构成，该等倍反射型成像光学系统包含凹面主镜和凸面副镜，能够在使来自上述物体表面的反射光的光束按照上述凹面主镜、上述凸面副镜、上述凹面主镜的顺序反射后在上述受光面成像，上述等倍反射型成像光学系统包含检偏镜，上述检偏镜由在X轴方向和Y轴方向具有相同折射率的偏振光元件构成。
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