[发明专利]ICP质谱分析装置有效
申请号: | 201680076005.X | 申请日: | 2016-06-24 |
公开(公告)号: | CN108474761B | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
发明(设计)人: | 中野智仁 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | G01N27/62 | 分类号: | G01N27/62;H01J49/10 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供如下一种ICP质谱分析装置:在进行冷却水系统的氩气吹扫时,能够抑制氩气的消耗量和氩气源的供给压力的变动地有效地排出残留水。构成为具备装置主体部(1)、冷却水系统(2)以及氩气供给系统(3),其中,冷却水系统(2)对包括高频电源(12)、高频线圈(18)以及样品导入部(13)的需要冷却的被冷却构造部供给来自水源(20)的冷却水,设置有主阀(V0)、具有吹扫阀(V1)的吹扫气体流路(32)以及被设置在比吹扫气体流路(32)的合流点(G)靠下游侧的位置的中间阀(V2、V3),被冷却构造部在比中间阀(V2、V3)靠下游侧的位置连接于水冷用配管的流路,阀控制部(35)进行以下的间歇吹扫控制:在输送氩气时使中间阀(V2、V3)间歇性地打开和关闭来在中间阀(V2、V3)的上游侧重复进行氩气的蓄压和释放。 | ||
搜索关键词: | icp 谱分析 装置 | ||
【主权项】:
1.一种ICP质谱分析装置,其特征在于,具备:装置主体部,其经由控制气体流量的气体流量控制部将等离子体产生用的氩气和试样气体供给到等离子体喷枪的反应管,并且对所述等离子体喷枪的高频线圈施加来自高频电源的高频电压,由此使试样气体离子化,将所产生的试样离子从样品导入部引入到质谱仪中来进行质谱分析;冷却水系统,其对包括所述高频电源、所述高频线圈以及所述样品导入部的需要冷却的被冷却构造部连接水冷用配管的流路,来将来自水源的冷却水供给到所述被冷却构造部;以及氩气供给系统,其对所述气体流量控制部连接气体用配管的流路,来从氩气源供给氩气,其中,在所述冷却水系统中设置有:主阀,其连接于所述水冷用配管的上游侧的流路;吹扫气体流路,其以从所述气体用配管分支且在比所述主阀靠下游侧的位置经由吹扫阀与所述水冷用配管合流的方式进行流路连接;以及中间阀,其连接于比所述吹扫气体流路的合流点靠下游侧的水冷用配管的流路,所述被冷却构造部在比所述中间阀靠下游侧的位置连接于所述水冷用配管的流路,该ICP质谱分析装置还具备使所述主阀、所述吹扫阀以及所述中间阀的开闭控制协作地进行的阀控制部,所述阀控制部进行以下的间歇吹扫控制:在使所述主阀为关闭状态且使所述吹扫阀为打开状态来经由吹扫气体流路输送氩气时,使所述中间阀间歇性地打开和关闭以在所述中间阀的上游侧重复进行氩气的蓄压和释放。
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