[发明专利]用于在真空沉积工艺中保持基板的设备、用于在基板上进行层沉积的系统和用于保持基板的方法有效
| 申请号： | 201680077022.5 | 申请日： | 2016-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN108474110B | 公开（公告）日： | 2020-10-20 |
| 发明（设计）人： | 沃尔夫冈·布什贝克;安德烈亚斯·洛普;戴特尔·哈斯;海曼斯·古帕拉朱 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C16/458;H01J37/32;H01L21/683;C23C14/04;C23C16/04 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开内容提供了一种用于在真空沉积工艺中保持基板(10)的设备(100)。设备(100)包括：支撑表面(112)；电极布置(120)，所述电极布置(120)具有多个电极(122)，所述电极布置(120)经构造以提供作用在基板(10)和掩模(20)中的至少一者上的吸引力；和控制器(130)，所述控制器(130)经构造以将第一电压极性配置和不同于第一电压极性配置的第二电压极性配置应用到电极布置(120)，其中控制器(130)经构造以在第一电压极性配置与第二电压极性配置之间切换。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 真空 沉积 工艺 保持 设备 基板上 进行 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于在真空沉积工艺中保持基板的设备，所述设备包括：支撑表面；电极布置，具有多个电极，所述电极布置经构造以提供作用在所述基板和掩模中的至少一者上的吸引力；以及控制器，经构造以将第一电压极性配置和不同于所述第一电压极性配置的第二电压极性配置应用到所述电极布置，其中所述控制器经构造以在所述第一电压极性配置与所述第二电压极性配置之间切换。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司，未经应用材料公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680077022.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
