[发明专利]一种光耦合器及光处理方法有效
| 申请号： | 201680077620.2 | 申请日： | 2016-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN108603985B | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 汪敬;刘磊;刘宁 | 申请（专利权）人： | 华为技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/34 | 分类号： | G02B6/34;G02B6/125 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 冯艳莲 |
| 地址： | 518129 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种光耦合器，包括：硅衬底(10)、位于硅衬底上的埋氧层(20)以及位于埋氧层上的顶硅层(30)，顶硅层包括多个并排的亚波长硅光栅(310)以及合光区(32)。多个亚波长硅光栅的两端均分别与外部光纤与合光区相接，且多个亚波长硅光栅的与外部光纤相接的一端的宽度小于与合光区相接的一端的宽度。每个该亚波长硅光栅用于将从外部光纤射入的光耦合入顶硅层中，并将在自身中向合光区方向传播的光的光斑尺寸减小至目标波导中光的光斑尺寸。合光区用于将从多个亚波长硅光栅输入的光合并，然后将光传输至目标波导，从而解决了现有技术中缺乏高耦合效率且低工艺成本的光耦合器的问题。还公开了一种光处理方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 耦合器 处理 方法 | ||
【主权项】：
PCT国内申请，权利要求书已公开。
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