[发明专利]试料支架、离子铣削装置、试料加工方法、试料观察方法、以及试料加工观察方法有效
| 申请号： | 201680077768.6 | 申请日： | 2016-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN108475607B | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 上野敦史;高须久幸 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20;H01J37/305 |
| 代理公司： | 11243 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 金成哲;王莉莉<国际申请>=PCT/JP |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提案了一种在由加工装置加工分析试料后不从试料支架取下该分析试料就能用观察装置进行观察的侧入方式试料支架。该试料支架具备：把持部(34)；从把持部(34)延伸的试料支架主体(35)；与试料支架主体(35)连接并设有用于固定试料(203)的试料台(204)的前端部(32)；以及用于变更固定于试料台(204)的试料(203)的加工面与离子束的照射方向的相对位置关系，避免在试料(203)加工过程中对前端部(32)照射离子束的机构(参照图3)。 | ||
| 搜索关键词： | 试料 支架 支架主体 把持部 离子束 前端部 试料台 观察 加工 离子铣削装置 相对位置关系 观察装置 加工装置 照射方向 加工面 取下 照射 变更 分析 提案 延伸 | ||
【主权项】：
1.一种试料支架，以横切离子束的照射轨迹的方式插入至离子铣削装置，并在试料加工后从上述离子铣削装置拔出，上述试料支架的特征在于，具备：/n把持部；/n试料支架主体，其从上述把持部延伸；/n前端部，其与上述试料支架主体连接，并设有用于固定试料的试料台；以及/n机构，其是使上述前端部从上述前端部与上述试料支架主体成为水平的状态向与设置有照射上述离子束的离子源的方向相反的方向旋转的机构，且用于变更固定于上述试料台的上述试料的加工面与上述离子束的照射方向的相对位置关系，避免在试料加工过程中对上述前端部照射上述离子束。/n
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