[发明专利]通过使用热等离子体制备具有均匀氧钝化层的铜金属纳米粉末的方法及其制备设备有效
| 申请号： | 201680078723.0 | 申请日： | 2016-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN108602128B | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 金大铉;赵闰柱 | 申请（专利权）人： | 株式会社丰山控股 |
| 主分类号： | B22F9/04 | 分类号： | B22F9/04 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种通过使用热等离子体制备具有均匀氧钝化层的铜金属纳米粉末的方法及其制备设备，更具体地，涉及一种制备用于光烧结(light sintering)的铜金属纳米粉末的方法，所述铜金属纳米粉末具有50‑200nm的平均直径和平均厚度为1‑30nm的表面氧钝化层，所述方法允许平均直径为5‑30μm的铜或铜合金粉末穿过热等离子体炬(torch)、反应容器以及氧反应区域，其中，以0.5‑7kg/hr的注入速度注入铜或铜合金粉末，对于每小时注入的每kg的铜或铜合金粉末，添加到氧反应区域的氧量在0.3‑12标准升每分钟(slpm)的范围内；还涉及一种用于制备其的光烧结铜金属纳米粉末制备设备。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 使用 等离子体 制备 具有 均匀 钝化 金属 纳米 粉末 方法 及其 设备 | ||
【主权项】：
1.一种制备用于光烧结的纳米铜金属粉末的方法，所述纳米铜金属粉末具有50至200nm的平均颗粒直径和平均厚度为1至30nm的表面氧钝化层，所述方法包括允许具有5至30μm的平均颗粒直径的铜或铜合金粉末通过热等离子体炬、反应容器和氧反应区域，其中以0.5至7kg/hr的注入速度注入铜或铜合金粉末，对于每小时注入的1kg铜或铜合金粉末，添加到氧反应区域的氧量在0.3至12slpm(标准升每分钟)的范围内。
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