[发明专利]散射辐射的多重光谱的同时检测在审
| 申请号： | 201680079402.2 | 申请日： | 2016-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN108603839A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | F·艾塔;A·罗加奇;V·什科尔尼科夫 | 申请（专利权）人： | 惠普发展公司;有限责任合伙企业 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65;G02B5/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 周学斌;陈岚 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在一个示例中，描述了一种装置，其包括光源、全息光学元件、采样装置和检测器。光源被配置成发射激发光束。全息光学元件被布置成将该激发光束转换成多个激发光束。采样装置被布置成将多个激发光束作为投射点的二维图案而投射到装置外侧的表面上。采样装置被进一步布置成响应于投射点的二维图案来收集由表面发射的散射辐射。检测器检测散射辐射中的频率偏移。 | ||
| 搜索关键词： | 采样装置 激发光束 散射辐射 全息光学元件 二维图案 投射点 光源 检测器 发射激发光束 检测器检测 表面发射 频率偏移 投射 光谱 响应 转换 检测 配置 | ||
【主权项】：
1.一种装置，包括：光源，其用于发射激发光束；全息光学元件，其用于将所述激发光束转换成多个激发光束；采样装置，其用于将所述多个激发光束作为投射点的二维图案而投射到所述装置外侧的表面上，以及用于响应于所述投射点的二维图案来收集由所述表面发射的散射辐射；以及检测器，用于检测所述散射辐射中的频率偏移。
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