[发明专利]超纯水制造装置以及超纯水制造装置的运转方法在审
| 申请号： | 201680080295.5 | 申请日： | 2016-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN108602705A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 佐藤伸 | 申请（专利权）人： | 栗田工业株式会社 |
| 主分类号： | C02F9/06 | 分类号： | C02F9/06;B01D61/48;B01D61/52;B01D61/54;B01D61/58;C02F1/42;C02F1/44;C02F1/469;C02F9/08 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 向勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的超纯水制造装置(1)包括一次纯水系统(2)和子系统(3)。一次纯水系统(2)具有反渗透膜(RO)装置(4)和再生型混床式离子交换装置(5)，在该再生型混床式离子交换装置(5)的后段具备作为硼浓度测定单元的硼监测器(6)和电去离子装置(7)。子系统(3)具有UV氧化装置(9)、非再生型混床式离子交换装置(10)以及超滤膜(11)。另外，通过硼监测器(6)连续监测一次纯水(W1)的硼浓度，将一次纯水(W1)的硼浓度〔B〕与电去离子装置(7)的硼去除率的乘积拟作为处理水(W2)的硼浓度〔B1〕，连续监测提供给子系统(3)的供给水的硼浓度。根据该超纯水制造装置(1)，可有效地去除硼且可迅速地预防其泄漏。 | ||
| 搜索关键词： | 超纯水制造装置 离子交换装置 再生型 混床 监测器 电去离子装置 一次纯水系统 连续监测 浓度测定单元 反渗透膜 氧化装置 超滤膜 处理水 供给水 硼去除 有效地 后段 去除 泄漏 运转 预防 | ||
【主权项】：
1.一种超纯水制造装置，其具有一次纯水系统和子系统，该子系统包括对由该一次纯水系统获得的一次纯水进行处理的离子交换装置和超滤膜装置，其中，在所述一次纯水系统的后段且所述子系统的前段，具备硼浓度测定单元和电去离子装置。
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