[发明专利]基板处理装置及基板处理方法

摘要

基板处理装置的基板保持部将基板(9)保持为水平状态。基板旋转机构使基板保持部以沿着上下方向延伸的中心轴J1为中心旋转。顶板(5)与基板(9)的上表面相向，并且以中心轴(J1)为中心旋转。气体供给部向下方空间的径向中央部供给处理环境用气体，该下方空间是顶板(5)的下方的空间。离子生成部(8)生成离子，并向来自气体供给部的处理环境用气体供给该离子。此外，在顶板(5)位于比搬入基板(9)时的位置更靠下方的位置的状态下，使基板保持部与顶板(5)旋转，并且向上述下方空间供给包含离子的处理环境用气体，形成从下方空间的径向中央部向径向外侧扩散的离子气流。由此，能够通过简单的构造对顶板(5)进行除电。

主权项

1.一种基板处理装置，用于处理基板，其中，具有：基板保持部，将基板保持为水平状态；基板旋转机构，使所述基板保持部以沿着上下方向延伸的中心轴为中心进行旋转；相向构件，与所述基板的上表面相向，并且以所述中心轴为中心进行旋转；处理液供给部，向所述基板的所述上表面供给处理液；气体供给部，向下方空间的径向中央部供给处理环境用气体，所述下方空间是所述相向构件的下方的空间；离子生成部，生成离子，并向来自所述气体供给部的所述处理环境用气体供给所述离子；以及控制部，通过控制所述基板旋转机构、所述气体供给部以及所述离子生成部，在所述相向构件位于比搬入所述基板时的所述相向构件的位置更靠下方的位置的状态下，使所述基板保持部以及所述相向构件旋转，并且向所述下方空间供给包含所述离子的所述处理环境用气体，形成从所述下方空间的径向中央部向径向外侧扩散的离子气流。