[发明专利]用于溶液相GAP肽合成的系统和方法有效
| 申请号： | 201680080750.1 | 申请日： | 2016-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN108697770B | 公开（公告）日： | 2023-08-01 |
| 发明（设计）人： | G·李;C·赛弗特 | 申请（专利权）人： | 得克萨斯技术大学联合体 |
| 主分类号： | A61K38/31 | 分类号： | A61K38/31 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 郭广迅 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了用于Fmoc/tBu溶液相肽合成的系统和方法，包括开发新的苄基型GAP保护基团及其相关用途。使用这种新的GAP保护基团代替聚合物载体，促进C至N Fmoc肽合成，而无需色谱法、重结晶或聚合物载体。可以高收率添加和去除GAP基团。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 溶液 gap 合成 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于基团辅助纯化(GAP)肽合成的保护基团，其选自：(1A)![]()
(1B)![]()
(1C)![]()
(1D)![]()
和(1E)![]()
其中：R选自H、Me和OMe；Y选自O、S和NH；并且X选自O、S和NH。
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