[发明专利]有机铅卤化物钙钛矿薄膜及制造其的方法有效
申请号: | 201680087284.X | 申请日: | 2016-06-30 |
公开(公告)号: | CN109564948B | 公开(公告)日: | 2022-06-21 |
发明(设计)人: | 蔡植豪;张鸿 | 申请(专利权)人: | 香港大学 |
主分类号: | H01L31/032 | 分类号: | H01L31/032;H01L31/18 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张凌苗;闫小龙 |
地址: | 中国香港*** | 国省代码: | 香港;81 |
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摘要: | 一种用于有机铅卤化物钙钛矿薄膜的室温制造的方法包括:在室温下基于在配合基(L)蒸汽和PbX2薄膜之间的固‑气反应来形成PbX2.(L)y薄膜;在室温下通过使PbX2.(L)y薄膜暴露于有机卤化铵溶液来形成钙钛矿薄膜;从有机卤化铵的溶液移除钙钛矿薄膜;清洗钙钛矿薄膜;干燥钙钛矿薄膜;使钙钛矿薄膜暴露于甲胺/醇气体混合物;从甲胺/醇气体混合物中移除钙钛矿薄膜;以及干燥钙钛矿薄膜。 | ||
搜索关键词: | 有机 卤化物 钙钛矿 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种有机铅卤化物钙钛矿薄膜的室温制造的方法,所述方法包括以下步骤:形成
溶液;在室温从
溶液形成
薄膜;将形成的
薄膜自然干燥;在室温通过在配合基(L)蒸汽和干燥的
薄膜之间的固‑气反应在原位形成
薄膜;在室温通过使形成的
薄膜暴露于有机卤化铵的溶液而形成钙钛矿薄膜;从有机卤化铵的溶液移除合成的钙钛矿薄膜;利用异丙醇(IPA)清洗被移除的合成的钙钛矿薄膜;将清洗的钙钛矿薄膜自然干燥;使干燥的钙钛矿薄膜暴露于甲胺/醇气体混合物;从甲胺/醇气体混合物移除钙钛矿薄膜;以及使移除的钙钛矿薄膜干燥。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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