[发明专利]成像质谱分析装置有效

专利信息
申请号: 201680088697.X 申请日: 2016-08-24
公开(公告)号: CN109642889B 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 竹下建悟 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62;H01J49/16
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 关注区域设定部(41)根据用户的指定来决定试样上的二维的关注区域和该区域中的多个测定点(微小区域)。测定区域设定部(42)在关注区域内的各测定点的附近且与该测定点完全不重叠的位置处分别决定不同的测定点,并设定包括所述多个不同的测定点的测定区域。当用户从输入部(5)分别对关注区域和测定区域单独地指定测定方法时,测定方法分配部(44)对各区域分配测定方法并进行存储。分析控制部(3)按照对关注区域中和测定区域中的各测定点分配的测定方法来执行质谱分析并将数据保存到数据保存部(21)。测定区域是稍微偏离了关注区域的位置,测定区域与关注区域视为成分的二维分布大致相同。因此,能够几乎不受由激光照射产生的成分或基质的消耗的影响地获取不同的测定方法下的针对关注区域的高品质的MS成像图像。
搜索关键词: 成像 谱分析 装置
【主权项】:
1.一种成像质谱分析装置,对在试样上的二维区域内设定的多个微小区域分别照射离子化探针并执行质谱分析,该成像质谱分析装置的特征在于,具备:a)关注区域设定部,其决定试样上的关注区域以及离散地位于该关注区域内的多个微小区域;b)测定区域设定部,其决定与所述关注区域部分重叠的一个以上的测定区域、以及离散地位于该测定区域内并位于与所述关注区域内的多个微小区域及其它测定区域内的多个微小区域完全不重叠的位置的多个微小区域;c)测定方法设定部,其对所述关注区域和一个以上的所述测定区域分别设定包括执行质谱分析时的分析条件的测定方法,或者对多个所述测定区域分别设定包括执行质谱分析时的分析条件的测定方法;以及d)分析执行部,其按照在所述测定方法设定部中对所述关注区域和所述测定区域设定的测定方法,对所述关注区域和一个以上的所述测定区域中分别包括的多个微小区域执行质谱分析,或者对多个所述测定区域中分别包括的多个微小区域执行质谱分析。
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