[发明专利]高光电变换效率太阳能电池及高光电变换效率太阳能电池的制造方法在审

专利信息
申请号: 201680090315.7 申请日: 2016-10-25
公开(公告)号: CN109891604A 公开(公告)日: 2019-06-14
发明(设计)人: 渡部武纪;三田怜;桥上洋;大塚宽之 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: H01L31/068 分类号: H01L31/068;H01L31/0224;H01L31/0236
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明是一种太阳能电池的制造方法,具有:在具有第一导电型的半导体基板的两主表面形成凹凸的步骤,在半导体基板的第一主表面,形成基底层的步骤,在基底层上形成扩散屏蔽的步骤,将扩散屏蔽图案状地除去的步骤,在除去第一主表面的扩散屏蔽的处所,形成射极层的步骤,除去残存的扩散屏蔽的步骤,于第一主表面上形成介电体膜的步骤,于基底层上形成基底电极的步骤,以及在前述射极层上形成射极电极的步骤。由此,提供削减工序数目同时呈现高的光电变换效率的太阳能电池的制造方法。
搜索关键词: 太阳能电池 主表面 光电变换效率 基底层 屏蔽 扩散 半导体基板 射极层 制造 基底电极 介电体膜 屏蔽图案 凹凸的 导电型 电极 射极 削减
【主权项】:
1.一种太阳能电池的制造方法,其特征为具有:在具有第一导电型的半导体基板的两主表面形成凹凸的步骤,在前述半导体基板的第一主表面,形成具有前述第一导电型,且具有比前述半导体基板更高的掺杂物浓度的基底层的步骤,在该基底层上形成扩散屏蔽的步骤,将前述扩散屏蔽图案状地除去,使除去的处所以外的扩散屏蔽残存的步骤,在除去前述第一主表面之前述扩散屏蔽的处所,形成具有与前述第一导电型相反的导电型的第二导电型的射极层的步骤,除去前述残存的扩散屏蔽的步骤,于前述第一主表面上形成介电体膜的步骤,于前述基底层上形成基底电极的步骤,以及在前述射极层上形成射极电极的步骤。
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