[发明专利]高光电变换效率太阳能电池及高光电变换效率太阳能电池的制造方法在审
申请号: | 201680090315.7 | 申请日: | 2016-10-25 |
公开(公告)号: | CN109891604A | 公开(公告)日: | 2019-06-14 |
发明(设计)人: | 渡部武纪;三田怜;桥上洋;大塚宽之 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | H01L31/068 | 分类号: | H01L31/068;H01L31/0224;H01L31/0236 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明是一种太阳能电池的制造方法,具有:在具有第一导电型的半导体基板的两主表面形成凹凸的步骤,在半导体基板的第一主表面,形成基底层的步骤,在基底层上形成扩散屏蔽的步骤,将扩散屏蔽图案状地除去的步骤,在除去第一主表面的扩散屏蔽的处所,形成射极层的步骤,除去残存的扩散屏蔽的步骤,于第一主表面上形成介电体膜的步骤,于基底层上形成基底电极的步骤,以及在前述射极层上形成射极电极的步骤。由此,提供削减工序数目同时呈现高的光电变换效率的太阳能电池的制造方法。 | ||
搜索关键词: | 太阳能电池 主表面 光电变换效率 基底层 屏蔽 扩散 半导体基板 射极层 制造 基底电极 介电体膜 屏蔽图案 凹凸的 导电型 电极 射极 削减 | ||
【主权项】:
1.一种太阳能电池的制造方法,其特征为具有:在具有第一导电型的半导体基板的两主表面形成凹凸的步骤,在前述半导体基板的第一主表面,形成具有前述第一导电型,且具有比前述半导体基板更高的掺杂物浓度的基底层的步骤,在该基底层上形成扩散屏蔽的步骤,将前述扩散屏蔽图案状地除去,使除去的处所以外的扩散屏蔽残存的步骤,在除去前述第一主表面之前述扩散屏蔽的处所,形成具有与前述第一导电型相反的导电型的第二导电型的射极层的步骤,除去前述残存的扩散屏蔽的步骤,于前述第一主表面上形成介电体膜的步骤,于前述基底层上形成基底电极的步骤,以及在前述射极层上形成射极电极的步骤。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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