[发明专利]光刻胶涂覆方法和装置有效
| 申请号： | 201710004036.0 | 申请日： | 2017-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN106707690B | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 罗先刚;王彦钦;赵泽宇;蒲明博;高平;马晓亮;李雄;郭迎辉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 倪斌 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种光刻胶涂覆装置和光刻胶涂覆方法。所述光刻胶涂覆装置包括：供气单元(10)，用于向光刻胶涂覆单元(20)供应气体；所述光刻胶涂覆单元(20)，包括：由侧壁、底板和盖板(206)包封的设备腔体(202)，旋转平台(204)，用于承载基片(205)并带动基片旋转，与基片共形的导流单元，用于将供气单元供应的气体均匀地吹过涂覆了光刻胶的基片表面；以及抽气单元(203)，对所述设备腔体(202)抽气。本发明实现了大面积基片的快速均匀光刻胶涂覆。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 胶涂覆 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种光刻胶涂覆装置，包括：供气单元(10)，用于向光刻胶涂覆单元(20)供应气体；所述光刻胶涂覆单元(20)，包括：由侧壁、底板和盖板(206)包封的设备腔体(202)，旋转平台(204)，用于承载基片(205)并带动基片旋转，与基片(205)共形的导流单元，用于将供气单元供应的气体均匀地吹过涂覆了光刻胶的基片表面；以及抽气单元(203)，对所述设备腔体(202)抽气。
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