[发明专利]一种掩膜板、曝光装置及其进行曝光的方法在审
申请号: | 201710008479.7 | 申请日: | 2017-01-05 |
公开(公告)号: | CN106707682A | 公开(公告)日: | 2017-05-24 |
发明(设计)人: | 许卓;张逵;王孝林;白雅杰;汪锐;金在光;尚飞;邱海军 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人: | 朱琳爱义 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种掩膜板、曝光装置及其进行曝光的方法,该掩膜板包括至少两个并排设置的用于形成单膜层图案的有效图形的掩膜图案区域,以及与各掩膜图案区域分别对应的至少两组对位标识;每组对位标识中包含的两个对位标识以对应的掩膜图案区域为中心对称设置。由于一个掩膜图案区域可以用于对应形成一个单膜层图案的有效图形,通过掩膜板中的至少两个并排设置的掩膜图案区域,即可形成至少两个单膜层图案的有效图形,并且以对应的掩膜图案区域为中心对称设置的每组对位标识中包含的两个对位标识,保证了单膜层图案的有效图形的位置精度。因此,有效减少了掩膜板的数量,从而降低了开发颠覆性创新设计的成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 曝光 装置 及其 进行 方法 | ||
【主权项】:
一种掩膜板,其特征在于,包括:至少两个并排设置的用于形成单膜层图案的有效图形的掩膜图案区域,以及与各所述掩膜图案区域分别对应的至少两组对位标识;每组所述对位标识中包含的两个所述对位标识以对应的所述掩膜图案区域为中心对称设置。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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