[发明专利]一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示器及显示装置在审
| 申请号： | 201710011412.9 | 申请日： | 2017-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN106773215A | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 方群;陆相晚;朱涛;袁慧芳;唐文浩;尹海斌;董安鑫;陈建;钟国强;殷瑞;余娅 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示器及显示装置，通过在位于衬底基板边缘区域的黑矩阵的上方形成上表面距离衬底基板的上表面的距离大于光阻层的上表面距离衬底基板的上表面的距离的阻挡墙的图形，并且采用滴注法在阻挡墙限定的区域内形成覆盖黑矩阵层和光阻层的平坦化层，由于采用滴注法形成平坦化层时材料的粘度较低，因此可以保证该材料在阻挡墙限定的区域内充分流动，从而可以使显示区域中的平坦化层的表面分布均匀，进而可以提高彩膜基板的显示区域中的平坦化层表面的平坦性。因此将该彩膜基板应用于液晶显示器时，可以提高液晶显示器的显示均一性，进而提高液晶显示器的品质。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 彩膜基板 制作方法 液晶显示器 显示装置 | ||
【主权项】：
一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成黑矩阵的图形；在形成有所述黑矩阵图形的所述衬底基板上形成多种颜色的光阻层的图形，以及在位于所述衬底基板边缘区域的所述黑矩阵的上方形成阻挡墙的图形；其中，所述阻挡墙的上表面距离所述衬底基板的上表面的距离大于所述光阻层的上表面距离所述衬底基板的上表面的距离；采用滴注法在所述阻挡墙限定的区域内形成覆盖所述黑矩阵层和所述光阻层的平坦化层。
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