[发明专利]基板处理系统和方法

摘要

本发明涉及一种基板处理系统和方法。具体地，一种用于处理基板的系统具有真空外壳和定位成处理在真空外壳内部的处理区中的晶片的处理室。提供两个轨道组件，一个轨道组件在处理区的每侧上。两个卡盘阵列每个在轨道组件之一骑行上，使得每个卡盘阵列在一个轨道组件上悬臂式伸展并支撑多个卡盘。轨道组件耦合到升高机构，其将轨道放置在用于处理的较高的位置上以及放置在用于返回卡盘组件的较低的位置处用于装载新晶片。拾取头组件将晶片从输送机装载到卡盘组件上。拾取头具有从晶片的正侧拾取晶片的多个静电卡盘。在处理卡盘中的冷却通道用于产生气垫以在由拾取头输送时帮助使晶片对齐。

主权项

一种基板处理系统，包括：真空外壳；处理室，其附接到所述真空外壳并在所述真空外壳内限定处理区；第一轨道组件，其被安置于所述真空外壳内部在所述处理室的一侧上；第一升高机构，其耦合到所述第一轨道组件并被配置成将所述第一轨道组件提升到升高后的位置以及将所述第一升高组件降低到较低的位置；第二轨道组件，其被安置于所述真空外壳内部在所述第一轨道组件的相对侧上；第二升高机构，其耦合到所述第二轨道组件并被配置成将所述第二轨道组件提升到升高后的位置以及将所述第二升高组件降低到较低的位置；第一悬臂式架子，其被配置为骑行在所述第一轨道组件上；以及第二悬臂式架子，其被配置为骑行在所述第二轨道组件上。